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7 月 5 日消息，無問芯穹聯(lián)合創(chuàng)始人兼 CEO 夏立雪昨日在世界人工智能大會 AI 基礎(chǔ)設施論壇上發(fā)布了無問芯穹大規(guī)模模型的異構(gòu)分布式混合訓練系統(tǒng)，稱千卡異構(gòu)混合訓練集群算力利用率最高達到了 97.6%。夏立雪還宣布無問芯穹 Infini-AI 云平臺已集成大模型異構(gòu)千卡混訓能力，是全球首個可進行單任務千卡規(guī)模異構(gòu)芯片混合訓練的
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7月5日消息，2024世界人工智能大會（WAIC）日前在上海開幕，國內(nèi)首款開源鴻蒙全尺寸人形機器人在大會亮相。據(jù)了解，這款機器人為樂聚公司旗下的“夸父”（KUAVO），搭載盤古具身智能大模型，不僅能夠?qū)崿F(xiàn)全方位視覺感知，還具備跳躍能力，支持多地形行走。據(jù)媒體報道，大會現(xiàn)場人員表示，機器人目前已經(jīng)開始量產(chǎn)，價格預估在
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7 月 3 日消息，Meta公司昨日（7 月 2 日）發(fā)布研究論文，介紹了名為 Meta3D Gen（3DGen）的全新 AI 模型，可以在 1 分鐘內(nèi)基于用戶輸入的提示詞，生成高質(zhì)量的 3D 內(nèi)容。Meta 公司表示 Meta 3D Gen（3DGen）所生成的 3D 內(nèi)容具備高分辨率紋理和材質(zhì)貼圖，還支持基于物理的渲染（PBR），并能對此前生成的 3D 內(nèi)
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通義千問（Qwen）今天宣布經(jīng)過數(shù)月的努力，Qwen 系列模型從 Qwen1.5 到Qwen2的重大升級，并已在 Hugging Face 和 ModelScope 上同步開源。附上 Qwen 2.0 主要內(nèi)容如下：5 個尺寸的預訓練和指令微調(diào)模型，包括 Qwen2-0.5B、Qwen2-1.5B、Qwen2-7B、Qwen2-57B-A14B 以及 Qwen2-72B在中文英語的基礎(chǔ)上，訓練數(shù)據(jù)中增
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在現(xiàn)代工業(yè)自動化和通信網(wǎng)絡中，對于高速、穩(wěn)定和精準的時間同步有著極高的要求，隨著工業(yè)4.0的提出和智能制造的發(fā)展，工業(yè)以太網(wǎng)應運而生，而在工業(yè)以太網(wǎng)之中交換機是保證通信穩(wěn)定的重要的一環(huán)。工業(yè)以太網(wǎng)交換機廣泛應用于工業(yè)控制、制造業(yè)、能源電力、智慧交通等領(lǐng)域。它可以支持工業(yè)自動化系統(tǒng)中各種傳感器、執(zhí)行器、P
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自動駕駛和自主駕駛車輛依靠攝像頭和雷達等傳感器，在行駛中協(xié)助或接管決策。為確保道路安全，必須對傳感器的正?；雍凸δ苓M行全面測試。羅德與施瓦茨（以下簡稱“R&S”）和杜爾為經(jīng)由空口（OTA）的車輛在環(huán)（VIL）測試開發(fā)了一種創(chuàng)新、經(jīng)濟的解決方案。該解決方案可在生產(chǎn)線末端（EOL）測試或定期技術(shù)檢查（
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日前，NIConnect2024落下帷幕，這不僅是NI正式加入艾默生集團后的首場全球性行業(yè)會議，也是揭示了測試測量行業(yè)對未來發(fā)展趨勢的判斷與創(chuàng)新探索。艾默生首席運營官Ram Krishnan表示，首次參加NI Connect活動讓他感到振奮，雙方將攜手為行業(yè)帶來技術(shù)與商業(yè)價值的多維度突破。NI Connect2024的活動日程可被概括為技術(shù)創(chuàng)新
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5 月 22 日消息，科大訊飛今日官宣，旗下訊飛星火Lite API 永久免費開放，支持在線聯(lián)網(wǎng)搜索、適用于低算力推理與模型精調(diào)等定制化場景。注：訊飛星火 Pro / Max API 價格為：0.21 元 / 萬 tokens。據(jù)介紹，1token 相當于 1.5 個中文漢字，用戶付費 0.21 元即可調(diào)用“訊飛星火 3.5 Max”生成一部“余華《活著》”的內(nèi)容
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5月21日消息，?？禉C器人昨日迎來了一個重要的里程碑——全品類移動機器人累計下線10萬臺。歷經(jīng)多年的自主研發(fā)和應用場景拓展，?？狄苿訖C器人的產(chǎn)品型號已超過1450種，按功能可分為堆高、搬運、全向、夾抱、托舉、舉升、牽引、提升等各種子類。據(jù)英國市場研究公司Interact Analysis統(tǒng)計，?？禉C器人已連續(xù)三年穩(wěn)居全球出貨
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5 月 17 日，據(jù)日媒報道，佳能公司在半導體光刻機業(yè)務上已展現(xiàn)出復蘇的強勁勢頭。盡管過去在與荷蘭阿斯麥和尼康的競爭中，佳能未能成功生產(chǎn)出 ArF 浸沒式光刻機和 EUV（極紫外）光刻機，但近期他們通過推出納米壓印光刻裝置（nanoimprint lithography），成功奪回了在尖端封裝用途市場的主導地位。這一技術(shù)突破使佳能再次站
